介质阻挡放电常压化学气相沉积技术及其在薄膜制备中的应用

• 作者: 张溪文 徐世友 韩高荣
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: PECVD DBD DBD-CVD
• 年，卷（期）: 2003,（9）
• 所属期刊栏目: 新材料新技术
• 页码范围: 75-77
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 2961字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2003.09.023

摘要

介质阻挡放电(DBD)是一种可以在常压下工作的放电形式,以这种放电形式为离子源的介质阻挡化学气相沉积(DBD-CVD)技术可以以较高的反应物流量实现多种薄膜的沉积,因而有广阔的应用前景.综述了DBD技术的发展历史及相关理论,着重介绍了DBD-CVD技术及其应用现状,并提出展望.