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180nm及更深技术中去除过度注入光刻胶的干剥离工艺
180nm及更深技术中去除过度注入光刻胶的干剥离工艺
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摘要：
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一种光刻胶专用树脂的生产方法及应用
光刻胶
专用树脂
生产工艺
应用
光刻胶级214-磺酰氯的生产方法及应用
光刻胶
214-磺酰氯
生产方法
应用
图形反转双层光刻胶金属剥离技术
太阳电池
光刻
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期刊影响力
半导体技术
主办单位：
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1003-353X
CN：
13-1109/TN
开本：
大16开
出版地：
石家庄179信箱46分箱
邮发代号：
18-65
创刊时间：
1976
语种：
chi
出版文献量（篇）
5044
总下载数（次）
38
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