低压等离子喷涂NiCrAlY涂层的恒温氧化特征分析

• 作者: 刘敏 孙晓峰 张玉娟 管恒荣 胡壮麒 金涛
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 低压等离子喷涂 NiCrAlY涂层 恒温氧化 表面氧化膜
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 14-16
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 2299字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2003.01.005

摘要

低压等离子喷涂(LPPS)NiCrAlY涂层在1 100 ℃恒温氧化100 h,氧化动力学曲线为抛物线状,氧化速率常数kp=0.52×10-6 mg-2*cm-4*s-1,涂层表面生成α-Al2O3保护膜,并有Y富集其中.氧化初期,氧化膜中夹杂少量θ-Al2O3,很快转变成α-Al2O3.氧化膜随氧化时间的延长而增厚,并局部与基体开裂、剥落,剥落后的涂层表面有孔洞和粘结脊的印记.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙晓峰	中国科学院金属研究所	176	1801	20.0	33.0
2	管恒荣	中国科学院金属研究所	120	1371	20.0	25.0
3	胡壮麒	中国科学院金属研究所	282	3416	27.0	40.0
4	金涛	中国科学院金属研究所	114	1303	17.0	31.0
5	刘敏		78	1070	18.0	28.0
6	张玉娟	中国科学院金属研究所	16	262	9.0	16.0