半导体激光器阵列隔离槽的湿法腐蚀

• 作者: 冯荣珠 安振峰 牛健 花吉珍 赵卫青 辛国锋 陈国鹰
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学湿法腐蚀 半导体激光器阵列 扫描电子显微镜
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1089-1092
• 页数: 4页
• 分类号: TN248
• 字数: 2776字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.10.017

摘要

研究了几种腐蚀液对半导体激光器阵列外延材料的腐蚀过程,其中HF(40%)/CrO3(33wt%)腐蚀液比较适合,用扫描电子显微镜(SEM)对其腐蚀情况进行了分析,并给出了利用这种腐蚀液进行腐蚀的半导体激光器阵列隔离槽的图像.通过调节HF/CrO3腐蚀液的体积比(从0.02到0.2),确定了AlxGa1-xAs组分渐变材料的腐蚀条件(室温23℃,腐蚀时间4min)以及最佳配比(体积比为0.1).利用这种腐蚀液得到的腐蚀图形可以满足激光器阵列的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈国鹰	河北工业大学信息工程学院微电子所	62	307	9.0	12.0
2	花吉珍	中国电子科技集团公司第十三研究所	18	74	5.0	7.0
3	安振峰	中国电子科技集团公司第十三研究所	31	150	7.0	10.0
4	牛健	河北工业大学信息工程学院微电子所	3	6	1.0	2.0
5	冯荣珠	中国电子科技集团公司第十三研究所	5	22	3.0	4.0
6	辛国锋	河北工业大学信息工程学院微电子所	9	47	5.0	6.0