气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜

• 作者: 余斌 张占文 李波 林波 王朝阳
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 化学
• 关键词: 气相沉积 制备 聚对二甲苯
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 86-87,83
• 页数: 3页
• 分类号: O632
• 字数: 1910字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2003.06.027

摘要

原子序数低的CH薄膜在惯性约束聚变实验用靶的制备中应用很广泛.介绍了真空气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜的实验设备、实验原理和实验方法.制备聚对二甲苯薄膜的原料在400K附近蒸发,950K附近裂解成单体,单体在300K的低温表面聚合成膜.研究了薄膜厚度的计算方法,并根据实验数据推导了计算公式,从而实现了对薄膜厚度的精确控制,使其在惯性约束聚变靶制备中得以应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王朝阳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	96	655	14.0	19.0
2	张占文	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	80	531	12.0	16.0
3	余斌	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	20	108	6.0	9.0
4	李波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	109	718	13.0	19.0
5	林波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	16	98	6.0	9.0