离子束合成钇硅化物的结构及红外谱特征

• 作者: 王文武 谢二庆 贺德衍
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 钇硅化物 离子注入 红外光辐照处理 特征红外光谱
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 233-236
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2713字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.01.043

摘要

将稀土金属钇离子注入到n型单晶Si(111)中制备出钇硅化物埋层.利用x射线衍射、卢瑟福背散射和傅里叶红外吸收谱测量分析了样品的结构、原子的埋层分布和振动模式.结果表明,Y离子在注入过程中已与基底中的Si原子形成了YSi2结构相.真空下的红外光辐照处理促使YSi2择优取向生长,埋层中Si与Y的平均原子浓度比由2.4下降为2.0,与六方YSi2的化学计量比一致.还给出了钇硅化物的特征红外吸收谱.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢二庆	兰州大学物理系	84	371	11.0	14.0
2	贺德衍	兰州大学物理系	68	559	13.0	19.0
3	王文武	兰州大学物理系	6	12	2.0	3.0