高气压反射式高能电子衍射仪监控脉冲激光外延氧化物薄膜

• 作者: 彭炜 曾光 朱小红 李林 李洁 王萍 郑东宁 陈珂 陈莺飞
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 高温超导薄膜 RHEED
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2601-2606
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 3653字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.10.045

摘要

在超高真空分子束外延(MBE)生长技术中,反射式高能电子衍射仪(RHEED)能实时显示半导体和金属外延生长过程,给出薄膜表面结构和平整度的信息,成为MBE必备的原位表面分析仪.为了研究氧化物薄膜如高温超导(YBa2Cu3O7)、铁电薄膜(Sr1-xBaxTiO3)及它们的同质和异质外延结构的生长机理,获得高质量的符合各种应用需要的氧化物多层薄膜结构,在常规的制备氧化物薄膜的脉冲激光沉积(PLD)设备上配备适合在高气压制膜条件下使用的高气压反射式高能电子衍射仪(high-pressure RHEED),在国内首先实现氧化物薄膜生长过程的实时监控.详细介绍了高气压反射式高能电子衍射仪的结构和特性,给出了碳酸锶(SrTiO3)基片上同质外延碳酸锶铌(SrTiO3+2%Nb)和异质外延钇钡铜氧(Y1Ba2Cu3O7)薄膜生长过程中衍射图形和零级衍射强度震荡.