萘二甲酰亚氨基席夫碱类液晶材料的三阶非线性光学性能研究

• 作者: 孙真荣 张迎超 朱小蓉 牛瑞民 田禾 苏建华
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非线性光学 三阶非线性 液晶材料 席夫碱类 萘二甲酰亚氨基
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 非线性光学
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 分类号: O753.+2
• 字数: 2095字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2003.01.004

摘要

采用波长λ=532 nm和脉宽τ0=35 ps的Nd∶YAG锁模脉冲激光,运用双光束前向简并四波混频(DFWM)的方法,测量了两种萘二甲酰亚氨基席夫碱类液晶材料的三阶非线性效应,测得其离共振三阶非线性系数χ(3)及响应时间,计算了它们的超极化率γ(3)和非线性折射率n2,同时探讨了它们的非线性形成机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田禾	华东理工大学精细化学学院	95	944	15.0	27.0
2	苏建华	华东理工大学精细化学学院	3	21	1.0	3.0
3	孙真荣	华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室	40	231	6.0	14.0
4	牛瑞民	华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室	1	21	1.0	1.0
5	朱小蓉	华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室	1	21	1.0	1.0
6	张迎超	华东理工大学精细化学学院	3	37	2.0	3.0