氮化钛薄膜的光学性能分析

• 作者: 姚李英 汤兆胜 范正修 邵建达 金永浩
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理学 光谱选择 光学常数 TVIS/TNIR
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 101-104
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 3276字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2003.01.022

摘要

利用磁控溅射法,在不同的工艺条件下制备氮化钛薄膜.详细分析了不同工艺条件下薄膜的光谱选择特性以及相应的光学常数,通过俄歇电子能谱对薄膜的不同深度的元素成分进行了分析,由原子力显微镜测量并处理得到氮化钛薄膜的表面形貌图.结果表明,氮化钛薄膜的光学性能严格依赖于氮和钛原子数比,符合化学计量比的TiN薄膜具有良好的光谱选择性.基底加负偏压溅射可进一步改善薄膜的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	汤兆胜	中国科学院上海光学精密机械研究所	20	201	7.0	14.0
4	姚李英	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	76	3.0	4.0
5	金永浩	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	60	3.0	4.0