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双层锰氧化物薄膜的制备及其物理性质
双层锰氧化物薄膜的制备及其物理性质
作者:
H.U.Habermeier
张鹏翔
茶丽梅
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
CMR
双层锰氧化物薄膜
PLD
应力
摘要:
用脉冲激光沉积(PLD)方法成功地制备了双层钙钛矿结构的La2-2xSr1+2xMn2O7(x=0.32)单相薄膜.这种薄膜生长在具有不同晶格参数的两种衬底上.测量发现,两种衬底上生长的La2-2xSr1+2xMn2O7(x=0.32)薄膜具有迥然不同的金属-绝缘体转变温度TM-I及其他物性.界面应力的研究表明这是衬底晶格常数不同引起膜内应变的结果.在衬底的压应力下,薄膜的电阻-温度曲线的峰值(TM-I)向高温移动且电阻率(ρ)下降;相反,对于衬底张应力下的薄膜,TM-I下降ρ上升.这些结果可以用双交换模型做很好的解释.
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文献信息
篇名
双层锰氧化物薄膜的制备及其物理性质
来源期刊
物理学报
学科
物理学
关键词
CMR
双层锰氧化物薄膜
PLD
应力
年,卷(期)
2003,(2)
所属期刊栏目
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向
页码范围
498-502
页数
5页
分类号
O4
字数
3248字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-3290.2003.02.047
五维指标
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(0)
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CMR
双层锰氧化物薄膜
PLD
应力
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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