pH值对聚四氨基酞菁铜膜电化学性质的影响

• 作者: 李敬芬 栾积毅 武冬梅 武雪梅
• 来源期刊: 黑龙江医药科学
• 学科: 化学
• 关键词: 四氨基酞菁铜 电聚合 pH值 循环伏安
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 调查与实验研究
• 页码范围: 20-20,21
• 页数: 2页
• 分类号: O621.25+9.2
• 字数: 1239字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-0104.2003.03.010

摘要

目的:研究了pH值对聚四氨基酞菁铜(p-CuTAPc)膜电化学性质的影响.方法:用循环伏安法在玻碳电极上制备了p-CuTAPc膜,并用循环伏安法对其在不同酸度下的氧化还原性质进行研究.结果:发现其氧化还原电位与pH值存在线性关系,斜率为-28 mV/pH.结论:质子和氢氧根离子参与了氧化还原反应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	武冬梅	佳木斯大学化学与药学院	62	190	7.0	10.0
2	栾积毅	佳木斯大学化学与药学院	37	105	5.0	8.0
3	李敬芬	佳木斯大学化学与药学院	25	112	7.0	9.0
4	武雪梅		7	73	3.0	7.0