电子工艺

• 来源期刊: 电子科技文摘
• 学科: 工学
• 关键词: 电子工艺 光刻技术 掩膜 极端紫外 会议录 电子束光刻 紫外扫描仪 光致抗蚀剂 SPIE 投影式
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 页码范围: 25-26
• 页数: 2页
• 分类号: TN305.7

摘要

【正】 SPIE-Vol.4343 0322409SPIE:会议录,卷4343:新兴光刻技术=Proceedings ofSPIE,Vol.4343:Emerging lithographic technologies[会,英]/SPIE-The International Society for Optical En-gineering.—818P.(E)本会议录收集了在美国 Santa Clara 召开的新兴光刻技术会议上发表的88篇论文,内容涉及 Internet 时代的技术,下一代光刻与制造,极端紫外光刻,紫外扫描仪,投影式电子光刻,X 射线光刻,光刻胶,光刻中分子玷污,掩膜纳米级制造,离子光刻。