硅片翘曲对光刻条宽均匀性的分析

• 作者: 宋矿宝 章文红 范捷 赵亚东
• 来源期刊: 半导体行业
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋矿宝		2	0	0.0	0.0
2	章文红		2	0	0.0	0.0
3	赵亚东		2	0	0.0	0.0
4	范捷		2	0	0.0	0.0