集成化NMOS核心工艺参数的Taurus Workbench优化

• 作者: 侯国宪 李惠军 赵国庆
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 超大规模集成电路 超深亚微米 仿真 优化
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 44-48
• 页数: 5页
• 分类号: TN402
• 字数: 2481字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2004.09.008

摘要

介绍了集成电路TCAD虚拟工厂系统Taurus Workbench,基于CMOS工艺的特点,在Taurus Workbench环境下进行了深亚微米级n沟器件的核心参数优化.优化结果印证了新的工艺条件对器件特性的改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李惠军	山东大学信息科学与工程学院	51	103	5.0	7.0
2	侯国宪		6	14	3.0	3.0
3	赵国庆		3	0	0.0	0.0