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摘要:
针对高分子光波导在制造工艺中波导芯厚度难以控制、芯层和包层的折射率差变动时的随机性以及材料各向异性引起的偏振态依赖性等实际问题,提出了采用抗波导芯厚度误差、抗折射率差变动和抗偏振变动的宽带波导耦合器回路结构的解决方案,给出了设计的理论和方法.在实测数据的基础上,进行了带宽为120nm的3dB氟化聚酰亚胺波导耦合器设计.由该器件的三维BPM仿真结果表明,在上述带宽上,波导芯厚度的变动范围为7~8μm、相对折射率差变动范围为0.24%~0.30%,两个正交偏振态都具有(50±2.0)%功率输出比的良好特性.
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文献信息
篇名 波导厚度变动、偏振变动以及折射率变动脱敏高分子宽带耦合器设计
来源期刊 光学技术 学科 工学
关键词 光波导 氟化聚酰亚胺光波导 抗偏振变动 抗膜厚变动 抗折射率差变动
年,卷(期) 2004,(4) 所属期刊栏目 导波和光纤光学
研究方向 页码范围 390-393
页数 4页 分类号 TN252
字数 4079字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1002-1582.2004.04.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈抱雪 上海理工大学光电学院 94 435 11.0 16.0
2 袁一方 上海理工大学光电学院 80 554 14.0 20.0
3 赵德欣 7 31 3.0 5.0
4 贾洪波 上海理工大学光电学院 5 9 2.0 2.0
5 周建忠 上海理工大学光电学院 11 14 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
光波导
氟化聚酰亚胺光波导
抗偏振变动
抗膜厚变动
抗折射率差变动
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学技术
双月刊
1002-1582
11-1879/O4
大16开
北京市海淀区中关村南大街5号
2-830
1975
chi
出版文献量(篇)
4591
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6
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