残余氧对TiN+Si3N4纳米复合薄膜硬度的影响

• 作者: S.Veprek 徐可为 马大衍 马胜利
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: PCVD TiN Si3N4 薄膜 硬度 氧含量
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 页码范围: 1037-1040
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2654字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2004.10.006

摘要

用直流等离子体增强化学气相沉积设备在不锈钢表面沉积纳米晶TiN和纳米非晶Si3N4复相薄膜.主要研究了氧元素对薄膜硬度的影响.结果表明,薄膜中极其微量的氧含量就会使nc-TiN+a-Si3N4薄膜的硬度大幅降低.薄膜中氧含量小于0.2%(原子分数),薄膜硬度可以达到45-55 Gpa,而氧含量升至1%-1.5%后,薄膜硬度降至30 Gpa左右.其原因与晶界处形成SiOx相有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	马胜利	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	51	461	12.0	18.0
3	马大衍	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	26	168	8.0	12.0