纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究

• 作者: 吴志国 张伟伟 张玉娟 徐建伟 李鑫 闫鹏勋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米结构氮化钛 薄膜 等离子体
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 974-977
• 页数: 4页
• 分类号: TG174
• 字数: 3399字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.021

摘要

利用自行研制的磁过滤等离子体设备,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征.利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果显示:沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑,致密而无缺陷;硬度远高于粗晶TiN的硬度;TiN晶粒尺寸在30～50nm;沉积过程中在基底上施加的负偏压会影响纳米结构TiN薄膜的结构和性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志国	兰州大学等离子体与金属材料研究所	14	187	8.0	13.0
2	徐建伟	兰州大学等离子体与金属材料研究所	7	94	5.0	7.0
3	闫鹏勋	兰州大学等离子体与金属材料研究所	50	460	12.0	18.0
4	李鑫	兰州大学等离子体与金属材料研究所	25	85	6.0	7.0
5	张玉娟	兰州大学等离子体与金属材料研究所	16	262	9.0	16.0
7	张伟伟	兰州大学等离子体与金属材料研究所	11	120	6.0	10.0