锰、铌对TiAl金属间化合物的电子结构及脆性的影响

• 作者: 谢华 钱匡武 陈文哲
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 电子结构 "余氏理论" TiAl 锰 铌 脆性
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 350-353
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.2
• 字数: 3268字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2004.02.015

摘要

采用"固体与分子经验电子理论"计算了Mn, Nb合金化对TiAl价电子结构参数的影响, 并在此基础上分析了Mn, Nb合金化对TiAl合金脆性的影响.结果表明:在TiAl晶胞中, Ti, Al原子的杂阶分别为13, 4, 共价电子在总价电子中所占比例为78.8%;加入Mn后, Ti, Al和Mn的杂阶分别为12, 4和11, 共价电子在总价电子中所占比例为73.87%, TiAl合金键合的共价成分降低, 因而Mn的加入可以改善TiAl的脆性;而Nb加入后Ti, Al和Nb的杂阶分别为12, 4 和7, 共价电子在总价电子中所占比例为79.2%, TiAl键合的共价成分有所提高, 从而Nb的加入可能进一步降低TiAl的延性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈文哲	福州大学材料学院	121	1359	19.0	31.0
2	钱匡武	福州大学材料学院	44	872	15.0	29.0
3	谢华	福州大学机电学院	23	247	11.0	15.0