Pt在多晶Au微盘电极上电沉积成核与晶体生长

• 作者: 刘佩芳 陶芝勇
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 电沉积 成核与生长 铂在金基底上电沉积 微电极
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 279-286
• 页数: 8页
• 分类号: O646
• 字数: 3576字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2004.03.005

摘要

于不同H2PtCl6浓度和超电势下,应用Fleischmann的电结晶成核及晶体生长模型和Barradas-Bosco的电化学成相吸附成核模型,拟合多晶Au微盘电极(φ=30 μm)上电沉积Pt的恒电势阶跃电流暂态曲线.得出:在稀H2PtCl6溶液中,上述沉积过程初期,发生H2PtCl6吸附并遵循二维瞬时成核与圆柱形生长模型.二维生长速率常数随超电势线性增加.跟随其后的是核的层状生长,其速率常数随超电势呈非线性变化.而在高浓H2PtCl溶液中,沉积机理转变为H2PtCl6的吸附、瞬时成核及三维正圆锥形的生长模式.其晶核的垂直生长速率常数kPERP比水平生长速率常数kPARA大两个数量级以上.况且,log kPERP随超电势线性增加,而log kPARA则随超电势呈反S形变化的关系.相同超电势下,无论kPERP还是kPARA,均比稀H2PtCl6溶液中的二维层状生长速率常数大几个数量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘佩芳	武汉大学化学与分子科学学院	4	17	2.0	4.0
2	陶芝勇	武汉大学化学与分子科学学院	1	2	1.0	1.0