TiN基磁性薄膜的研究

• 作者: 任妙娟 季刚 宋红强 张云鹏 陈延学
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 TiN 磁性薄膜 自旋电子学
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: TM277
• 字数: 2316字
• 语种: 中文

摘要

用射频磁控溅射技术制备了TiN掺Co的薄膜样品.400 ℃真空退火后,振动样品磁强计测量(VSM)表明,样品在室温下具有显著的铁磁性.其饱和磁化强度为2.93×108 A/m,饱和磁场强度约160 kA/m,矫顽力32 kA/m.超导量子干涉仪(SQUID)测量M-T曲线得出其居里温度在360 K以上,X射线衍射实验表明样品具有TiN样品的衍射峰.利用四探针测试仪测量电阻率得出ρ=4.824×10-5 Ω·m.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云鹏	山东大学物理与微电子学院	26	134	8.0	10.0
2	陈延学	山东大学物理与微电子学院	13	58	4.0	7.0
3	季刚	山东大学物理与微电子学院	9	42	4.0	6.0
4	宋红强	山东大学物理与微电子学院	6	17	2.0	4.0
5	任妙娟	山东大学物理与微电子学院	5	14	2.0	3.0