大面积多晶硅绒面的制备

• 作者: 卢景霄 孙晓峰 李维强 王海燕
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅绒面 酸腐蚀 减反射
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 197-200
• 页数: 4页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 2498字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2004.03.010

摘要

采用酸腐蚀法,在小面积(2cm×2cm)多晶硅绒面制作的基础上,成功地在大面积(10cm×10cm)多晶硅片表面上制作了绒面.利用扫描电子显微镜(SEM)观察其表面形貌并进行反射谱测试,结果表明腐蚀比较均匀,表面减反射效果较好,加权反射率可以达到5.26%,其减反射效果对入射光波长选择性不明显,远好于工业生产用的SiN减反膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王海燕	郑州大学物理工程学院	62	372	11.0	16.0
2	卢景霄	郑州大学物理工程学院	100	570	12.0	17.0
3	孙晓峰	郑州大学物理工程学院	8	74	3.0	8.0
4	李维强	郑州大学物理工程学院	9	82	4.0	9.0