聚焦离子束诱发金属有机化学气相淀积碳-铂薄膜

• 作者: 唐凌 江素华 王家楫
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚焦离子束 金属有机化学气相淀积 薄膜 铂 碳
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1458-1463
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 4353字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.11.021

摘要

通过一系列实验,对聚焦离子束诱发MOCVD的成膜机理进行了研究,给出了淀积速率同离子束流等参数之间关系的理论模型.发现随着离子束流的增大,薄膜淀积速率增大,但并非完全线性增加,薄膜中的C/Pt比例也随之变化,薄膜电阻率则随之降低,最后趋向恒定.研究结果对实际工作中的工艺参数选取和薄膜电学性质的改进都有一定价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王家楫	复旦大学材料科学系	25	114	6.0	9.0
2	江素华	复旦大学材料科学系	13	50	3.0	7.0
3	唐凌	复旦大学材料科学系	3	6	2.0	2.0