铼、钌联吡啶络合染料的电喷雾质谱研究

• 作者: 孙世国 张蓉 彭孝军
• 来源期刊: 染料与染色
• 学科: 工学
• 关键词: 电喷雾质谱 源内CID 络合染料 铼联吡啶络合物 钌联吡啶络合物
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 染料与颜料
• 页码范围: 325-326,370
• 页数: 3页
• 分类号: TQ610.7
• 字数: 2104字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-1179.2004.06.005

摘要

利用电喷雾质谱(ESI-MS)的源内CID(in-source Collision Induced Degradation, in-source CID)对2, 2'-联吡啶-4, 4'-二羧酸乙酯与铼络合染料(化合物1)和钌络合染料(化合物2)进行研究, 表征了络合物及其配体的相对稳定性结果表明,随CID电压的升高, 化合物1的吡啶配体容易脱落,并形成稳定的联吡啶三羰基配位离子[(4, 4'-(COOEt)2-bpy)Re(CO)3]+; 而化合物2在较高的CID电压下会发生联吡啶环上取代基的中性丢失, 其单电荷离子比二价电荷离子稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭孝军	大连理工大学精细化工国家重点实验室	98	774	13.0	23.0
2	张蓉	大连理工大学精细化工国家重点实验室	33	191	7.0	12.0
3	孙世国	大连理工大学精细化工国家重点实验室	27	185	7.0	12.0