硫脲对镍电沉积的作用

• 作者: 吴辉煌 杨防祖 王森林 胡光辉
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 硫脲 电沉积镍 速控步骤 阻抗-电位曲线
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 94-97
• 页数: 4页
• 分类号: O646
• 字数: 2187字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2004.01.018

摘要

应用循环伏安和阻抗-电位法研究了硫脲(TU)对玻碳电极和镀镍玻碳电极上镍沉积过程的影响.结果表明,在玻碳电极上镍的电沉积呈现明显的电化学成核机理,而在镀镍玻碳电极上则无此特征.TU的存在虽阻碍了Ni晶核的形成,但却能加速晶粒的生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴辉煌	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	25	283	9.0	16.0
2	杨防祖	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	57	701	16.0	23.0
3	胡光辉	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	9	163	7.0	9.0
4	王森林	厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室	3	42	3.0	3.0