化学浴法沉积SnS薄膜的机理分析

• 作者: 李红生 胡永红 郑春蕊 雷天民
• 来源期刊: 西安理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: SnS 薄膜 化学浴 氯化铵
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 392-395
• 页数: 4页
• 分类号: TQ03|TN3|TB443
• 字数: 2494字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4710.2004.04.013

摘要

研究了以硫代乙酰胺、三乙醇胺、氯化亚锡和氨水作反应物,氯化铵作缓冲剂,采用化学浴法制备SnS薄膜的化学反应机理,分析了络合剂和氯化铵对反应的影响.结果表明,硫代乙酰胺和氯化亚锡主要为SnS薄膜的形成提供Sn2+与S2-,三乙醇胺作为络合剂可以维持溶液中Sn2+的浓度,氯化铵的加入可使反应液PH值在反应中平稳变化,有利于高品质薄膜的形成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷天民	西安理工大学自动化与信息工程学院	17	78	5.0	8.0
2	李红生	西安理工大学自动化与信息工程学院	4	25	3.0	4.0
3	郑春蕊	西安理工大学自动化与信息工程学院	3	24	3.0	3.0
4	胡永红	西安理工大学自动化与信息工程学院	3	19	2.0	3.0