用于离子束辅助镀膜的两种模式端部霍尔离子源的比较

• 作者: 斯瓦德科夫斯基 方勇 朱昌 潘永强 达斯坦科
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束辅助镀膜 端部霍尔离子源 电磁场 永久磁场
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|TB43
• 字数: 2074字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2004.05.010

摘要

介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔离子源的工作原理,并论述了端部霍尔离子源的离子能量、离子分布特性的测试方法;详细论述了电磁场和永久磁场两种模式下,端部霍尔离子源的工作稳定性、离子能量大小以及离子束分布特性的比较.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘永强	西安工业学院光电工程学院	63	392	11.0	15.0
2	朱昌	西安工业学院光电工程学院	39	245	9.0	13.0
3	方勇	西安工业学院光电工程学院	10	43	3.0	6.0
4	斯瓦德科夫斯基		1	9	1.0	1.0
5	达斯坦科		1	9	1.0	1.0