电沉积羟基磷灰石/TiO2复合涂层

• 作者: 刘榕芳 左友松 林岚云 肖秀峰 许道旋
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 电沉积 羟基磷灰石 TiO2 结合强度
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 687-691
• 页数: 5页
• 分类号: O647.1|TQ174.1
• 字数: 3599字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2004.07.009

摘要

采用电沉积技术制备羟基磷灰石(HA)/TiO2复合涂层,比较了不同工艺条件对涂层中TiO2含量的影响,测试了涂层的结合强度,探讨了结合强度和TiO2含量的关系,实验结果表明,涂层中TiO2的含量随电流密度的降低、电沉积时间的延长和电解液中TiO2浓度的提高而增加,随主盐浓度的升高先增加后减小.结合强度随涂层中TiO2含量的增加而提高,经烧结后涂层的结合强度显著提高,涂层中TiO2质量分数为72.2%时,其结合强度可达18.7 MPa.复合涂层的耐腐蚀性较好,具有良好的化学稳定性和抗溶解性.当烧结温度高于800℃时,TiO2起催化作用促进HA分解,产生新相β-Ca3(PO4)2和CaO.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖秀峰	福建师范大学化学与材料学院	87	920	17.0	24.0
2	林岚云	福建师范大学化学与材料学院	6	140	6.0	6.0
3	刘榕芳	福建师范大学化学与材料学院	84	928	17.0	25.0
4	左友松	福建师范大学化学与材料学院	7	83	5.0	7.0
5	许道旋	福建师范大学化学与材料学院	1	16	1.0	1.0