氧分压对磁控溅射法制备TiO2薄膜及其光催化性能的影响

• 作者: 姜宏 徐鸿文 王自强 郎明 郭卫 鲁鹏
• 来源期刊: 玻璃
• 学科: 工学
• 关键词: 氧分压 磁控溅射 TiO2薄膜 光催化性能
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与研制
• 页码范围: 6-9,17
• 页数: 5页
• 分类号: TQ17
• 字数: 2573字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1987.2004.03.002

摘要

用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备出了TiO2薄膜,用SEM研究了膜的表面特征,测试了样品的可见-紫外光谱,并计算了薄膜厚度,以甲基橙为降解物,对TiO2薄膜进行了光催化性能的研究.结果表明,随着氧气分压从0.1 Pa增加到0.15 Pa,镀膜速率急剧下降;当氧气分压大于0.15 Pa以后,镀膜速率几乎保持不变.TiO2薄膜的光降解性在氧气分压为0.15Pa时,降解效率最高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郎明		1	10	1.0	1.0
2	姜宏		1	10	1.0	1.0
3	徐鸿文		1	10	1.0	1.0
4	鲁鹏		1	10	1.0	1.0
5	郭卫		1	10	1.0	1.0
6	王自强		1	10	1.0	1.0