液相电沉积技术制备n-型铋碲纳米线阵列温差电材料

• 作者: 张伟玲 张建中 王为 王惠 陶松
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铋碲温差电材料 纳米线阵列 电沉积
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 127-132
• 页数: 6页
• 分类号: TQ153
• 字数: 2965字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.01.021

摘要

对铋碲合金电沉积过程进行了研究,并分析了温度和硝酸浓度对铋碲共沉积的影响.结果表明,Bi3+和HTeO+2混合溶液中的电沉积是分阶段进行的.溶液中HTeO+2的存在阻碍了Bi3+的电沉积.铋碲共沉积的速度随温度的升高以及溶液中硝酸浓度的增加而加速.实验中还研究了沉积电位对铋碲组成的影响.采用ESEM分析了铋碲纳米线阵列温差电材料的形貌.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王为	天津大学化工学院	125	1597	22.0	34.0
2	王惠	天津大学分析中心	16	162	6.0	12.0
3	张伟玲	天津大学化工学院	4	34	4.0	4.0
4	陶松	天津大学化工学院	1	5	1.0	1.0
5	张建中		1	5	1.0	1.0