一种基于图像处理的半导体刻线边缘粗糙度的确定方法

• 作者: 李洪波 王凌 肖增文 褚巍 赵学增
• 来源期刊: 计量技术
• 关键词: 线宽 边缘提取 线边缘粗糙度 曲线拟合
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 理论与实验
• 页码范围: 3-5
• 页数: 3页
• 字数: 1233字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0771.2004.09.001

摘要

随着半导体技术的不断发展,半导体刻线临界尺寸不断降低,线边缘粗糙度对元件性能的影响越来越大.本文综合运用图像处理中的直方图图像描述、阈值化描述以及Sobel算子提取半导体刻线的边缘,并根据边缘计算了粗糙度.最后给出了一个样本的实际测量结果并加以分析,结果表明这一方法可以用来测量和分析临界尺寸刻线边缘粗糙度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵学增	哈尔滨工业大学机电学院	133	1496	19.0	30.0
2	李洪波	哈尔滨工业大学机电学院	37	207	9.0	11.0
3	褚巍	哈尔滨工业大学机电学院	17	111	6.0	9.0
4	肖增文	哈尔滨工业大学机电学院	14	87	6.0	8.0
5	王凌	哈尔滨工业大学机电学院	5	34	3.0	5.0