脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究

• 作者: 刘元富 刘赤子 张谷令 杨思泽 王久丽
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲高能量密度等离子体 TiN膜 显微组织 耐磨性
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 流体、等离子体和放电
• 页码范围: 503-507
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2149字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.02.033

摘要

利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在45号钢基材上制备出了超硬耐磨TiN薄膜.利用XRD,XPS,AES,SEM等手段分析了薄膜的成分及显微组织结构,并测试了薄膜的硬度分布及摩擦磨损性能.结果表明:薄膜主要组成相为TiN,薄膜组织致密、均匀,与基材之间存在较宽的混合界面;薄膜硬度高,在干滑动磨损实验条件下具有优异的耐磨性及较低的摩擦系数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘赤子	中国科学院物理研究所	12	170	8.0	12.0
2	张谷令	中国科学院物理研究所	12	156	7.0	12.0
3	王久丽	中国科学院物理研究所	6	85	5.0	6.0
4	杨思泽	中国科学院物理研究所	34	349	11.0	17.0
5	刘元富	中国科学院物理研究所	4	43	3.0	4.0