高纯度炭黑

• 作者: 易之
• 来源期刊: 炭黑译丛
• 学科: 工学
• 关键词: 炭黑 半导体 防反射膜 电加热器 纯度
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 4-5
• 页数: 2页
• 分类号: TQ330.381

摘要

本发明与高纯度炭黑有关。该炭黑适合用于在要求避免杂质(特别是金属杂质)的半导体领域制造例如IC(集成电路)、LSI(大规模集成电路)等半导体器件过程中光刻时形成防反射膜。