灰度掩模制作统掩模图形的生成及工艺研究

• 作者: 戴一帆 杨智 颜树华
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 空间光调制器 灰度掩模 工艺 二元光学
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 应用
• 页码范围: 406-409
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3585字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2004.04.028

摘要

灰度掩模法是目前正在积极探索的一种二元光学器件制作方法.从基于空间光调制器的灰度掩模制作方法出发,就"掩模图形的生成"和"工艺"这两个难点问题进行了深入的研究,并具体地制作了几种常用的二元光学器件的灰度掩模,为该方法进一步投入实用提供了一条较好的思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科技大学机电工程与自动化学院	109	1657	23.0	33.0
2	颜树华	国防科技大学机电工程与自动化学院	42	582	14.0	22.0
3	杨智	国防科技大学机电工程与自动化学院	2	7	1.0	2.0