用衰减全反射红外光谱研究纳米SiO2粒子在复合涂层中的迁移现象

• 作者: 付延鲍 宗祥福 杨清河 邱玮丽 马晓华
• 来源期刊: 复合材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 衰减全反射红外光谱(FTIR-ATR) 纳米SiO2 紫外光固化复合涂层
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 54-57
• 页数: 4页
• 分类号: TB332
• 字数: 3795字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3851.2004.04.011

摘要

用衰减全反射红外光谱(FTIR-ATR)技术研究了纳米SiO2粒子在紫外光固化复合涂层中的迁移现象,并对影响纳米SiO2粒子在涂层中分布梯度的因素进行了半定量分析.研究结果表明,纳米SiO2粒子在光固化过程中向涂层接触空气的表面迁移,在表面层富集.当纳米SiO2粒子含量较高、分子量较小、接枝率较高,或者在极性较大的基体树脂中时,迁移较快,分布梯度较大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付延鲍	复旦大学材料科学系	19	179	9.0	13.0
2	马晓华	复旦大学材料科学系	34	300	12.0	15.0
3	邱玮丽	复旦大学材料科学系	7	70	5.0	7.0
4	杨清河	复旦大学材料科学系	17	217	11.0	14.0
5	宗祥福	复旦大学材料科学系	39	315	11.0	16.0