反应磁控溅射法沉积的氟化类金刚石薄膜的结构分析

• 作者: 宁兆元 江美福
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 反应磁控溅射 氟化类金刚石薄膜 拉曼光谱 红外吸收光谱
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 52-54
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 2345字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.01.017

摘要

以高纯石墨作靶、Ar/CHF3作源气体采用射频反应磁控溅射法室温下制备了氟化类金刚石薄膜(F-DLC).发现随着射频功率的增加,F-DLC薄膜拉曼光谱的D峰与G峰强度之比ID/IG加大,薄膜中芳香环式结构比例上升.红外吸收光谱则显示射频功率增加导致薄膜中的氟含量上升,氟原子与碳原子以及芳香环的耦合加强.控制射频功率可以有效调制薄膜中的氟含量以及芳香环结构的比例,F-DLC可能成为热稳定性较好的碳氟薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理科学与技术学院	70	528	12.0	18.0
2	江美福	苏州大学物理科学与技术学院	17	144	7.0	11.0