常压MOCVD生长ZnO薄膜及其性质

• 作者: 彭绍琴 江风益 熊传兵 王立 莫春兰 蒲勇 陈玉凤
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金属有机化学气相沉积 氧化锌 原子力显微镜 光致发光 X射线双晶衍射 卢瑟福背散射/沟道效应
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 393-395
• 页数: 4页
• 分类号: O472.3
• 字数: 1115字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2004.04.012

摘要

用常压MOCVD在蓝宝石(0001)面上生长了氧化锌(znO)薄膜.用AFM、室温PL谱、Hall测量、X射线双晶衍射、卢瑟福背散射/沟道技术等分析方法研究了样品的表面形貌、结构性能、发光性能和电学性能.AFM分析结果显示,薄膜呈六角柱状结晶,表面平整,粗糙度(RMS)为6.257 nnl,平均晶粒直径达1.895 μm.室温PL测量该样品在380 nm处有很强的近带边发射,半峰全宽为15 nm.使用Hall测量检查了薄膜的电学性质.室温下该样品的载流子浓度为2×1017 cm-3,迁移率为75 cm2·V-1·s-1.用X射线双晶衍射和卢瑟福背散射/沟道效应研究了薄膜的结晶质量,样品的双晶衍射ω扫描半峰全宽为0.04°,沟道效应的最小产额比χmin为3.1%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭绍琴	南昌大学材料科学研究所	59	884	16.0	27.0
2	莫春兰	南昌大学材料科学研究所	24	177	7.0	12.0
3	王立	南昌大学材料科学研究所	48	324	10.0	14.0
4	江风益	南昌大学材料科学研究所	60	527	12.0	19.0
5	陈玉凤	南昌大学材料科学研究所	12	40	4.0	6.0
6	熊传兵	南昌大学材料科学研究所	23	157	7.0	11.0
7	蒲勇	南昌大学材料科学研究所	15	108	6.0	10.0