电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究

• 作者: 徐伟一 成旦红 曹铁华 桑付明 袁蓉
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米材料 镍-纳米SiO2复合镀层 电沉积
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 5-8,19
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153
• 字数: 3198字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2004.03.002

摘要

用电沉积方法制备了镍-纳米氧化硅复合镀层.研究了阴极电流密度、纳米SiO2微粒质量浓度、pH值、搅拌方式和表面活性剂种类以及质量浓度等对镀层中SiO2含量的影响,确定了可获得一定纳米氧化硅含量的复合镀工艺参数范围.并用扫描电镜观察了所获镀层的表面形貌.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹铁华	上海大学环境与化学工程学院	23	344	10.0	18.0
2	成旦红	上海大学环境与化学工程学院	34	622	13.0	24.0
3	桑付明	上海大学理学院	9	236	7.0	9.0
4	袁蓉	上海大学环境与化学工程学院	12	189	6.0	12.0
5	徐伟一	上海大学环境与化学工程学院	11	192	8.0	11.0