NIF光学材料和制造技术：概述

• 作者: J.H.Campbell R.A.Hawley-Fedder C,J.Stolz J.A.Menapace M.R.Borden P.K.Whitman J.Yu,M.Runkel M.O.Riley M.D.Feit R.P.Hackel 余泳 姜美花
• 来源期刊: 国外核武器研究
• 学科: 工学
• 关键词: NIF 光学材料 制造技术 激光系统 处理方法
• 年，卷（期）: 2004,（C00）
• 页码范围: 47-59
• 页数: 13页
• 分类号: TN244

摘要

NIF激光系统的高能，高功率部分包括7，360个米级的光学元件。几个主要的供应商已经开发了制造NIF光学元件所需的先进光学材料和制造技术并投入生产。与NIF之前的情况相比，现在生产速度快了20倍，而每件光学元件的成本降低了5倍。此外，为NIF制造的光学元件的指标比要求的更高，因此能够得到比设计更好的激光性能。供应商们已经设计、制造和安装了一套自定义计量工具，用以检验是否与NIF光学指标相匹配。本文简要描述了NⅢ玻璃和晶体光学元件的光学波前指标。波前指标在空间尺度上跨越了10um到0．5m的范围(全口径)。我们不断地利用多年的研究经验来延长大体积光学材料、抛光光学表面和多层介质膜寿命(如抗损伤)。一种加工好的光学元件的新的后处理方法已经被研究出来并投入使用．以改善抗损伤能力。其中包括膜层、玻璃表面和大体积KDP和DKDP的激光调制，以及光栅和全口径缺陷映射系统。在损伤机理上的研究将有助于开发出更好的光学材料。