脉冲真空弧源沉积类金刚石薄膜耐磨特性研究

• 作者: 冷永祥 孙永春 张琦 徐禄祥 杨萍 黄楠 龚发梅
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 化学
• 关键词: 类金刚石 耐磨性 脉冲真空弧源沉积 拉曼光谱 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 363-366,371
• 页数: 5页
• 分类号: O484|O53|O613.71
• 字数: 3417字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.05.011

摘要

本文利用脉冲真空弧源沉积技术在Cr17Ni14Cu4不锈钢和Si(100)基体上制备了类金刚石(DLC)薄膜,研究在不同基体偏压下,DLC薄膜的结构与性能.采用拉曼光谱和X射线光电子能谱(XPS)研究DLC薄膜的原子结合状态,利用CSEM销盘摩擦磨损试验机研究其耐磨性,利用HXD1000B显微硬度仪测试其显微硬度,并采用压痕法评价其结合力.研究结果表明:DLC薄膜与基体结合牢固.随着基体偏压的提高,DLC薄膜内sp3键含量增大,薄膜硬度提高.Cr17Ni14Cu4不锈钢表面沉积DLC薄膜后,耐磨性大幅度提高,本文探讨了DLC薄膜的耐磨机理.