阵列波导光栅制作关键技术

• 作者: 杜春雷 邱传凯 郑国兴
• 来源期刊: 光子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 阵列波导光栅 关键工艺 激光直写光刻 ICP反应离子刻蚀
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 光电器件
• 页码范围: 77-80
• 页数: 4页
• 分类号: TH7
• 字数: 3716字
• 语种: 中文

摘要

介绍了阵列波导光栅(AWG)在设计中要考虑的主要结构参数,制作材料,误差来源等.论述了利用CVD制作AWG所需SiO2光波导的化学过程及其特点,给出了我们制作的光波导的测试数据.给出了通过调整局部设计数据而得到的较好面型的激光直写AWG图形.介绍了我们利用RIE刻蚀得到的AWG实验晶片和利用ICP刻蚀AWG的可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜春雷	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	72	596	14.0	18.0
2	邱传凯	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	23	186	9.0	12.0
3	郑国兴	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	3	21	3.0	3.0