全息光栅实时显影监测曲线的理论模拟

• 作者: 吴振华 李立峰 赵劲松
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 物理光学 全息光栅 显影实时监测 光刻胶 显影模型 光栅掩模
• 年，卷（期）: 2004,（8）
• 所属期刊栏目: 物理光学
• 页码范围: 1146-1150
• 页数: 5页
• 分类号: O436.1
• 字数: 4452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2004.08.027

摘要

在特定的工艺条件下,光刻胶的非线性效应非常显著;合理地利用非线性效应,能够制作出近似矩形的全息光栅掩模.为了分析清楚非线性效应对光栅沟槽成形的作用机理,有必要建立一个显影理论模型.模拟得到的光栅轮廓和实验样片的扫描电子显微镜照片结果很吻合.根据这个模型,进而使用光栅严格理论,得到其主要特征与实时监测实验曲线一致的理论模拟监测曲线.理论分析和实验证实,该模型基本表征了工艺条件对光栅沟槽形状的影响,并揭示了光刻胶呈现显著非线性效应时,必然对应着明暗条纹中心位置之间的显影刻蚀速率相差很大.这个模型为全息光栅的工艺研究提供了一个有效的理论分析工具.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵劲松	清华大学精密仪器系	39	358	12.0	17.0
2	李立峰	清华大学精密仪器系	5	112	5.0	5.0
3	吴振华	北京光学仪器厂光栅研究室	5	91	3.0	5.0