厚二氧化硅光波导薄膜制备及其特性分析

• 作者: 何赛灵 姚奎鸿 娄丽芳 盛钟延 肖丙刚
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 导波与光纤光学 平面光波导 等离子体增强化学气相沉积 二氧化硅薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 导波与光纤光学
• 页码范围: 24-28
• 页数: 5页
• 分类号: O484.5
• 字数: 3510字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2004.01.006

摘要

以硅烷和氧化二氮作为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,不使用掺杂,在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的二氧化硅薄膜.研究了薄膜折射率和淀积速率与工艺参量之间的关系,通过棱镜耦合仪、傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜等测试手段,分析了薄膜的结构和光学特性.结果表明,实验能快速生长厚二氧化硅薄膜,薄膜表面平整,颗粒度均匀,同时薄膜具有折射率精确可控和红外透射性能好的特点,非常适合制作光波导器件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何赛灵	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心	100	1000	18.0	26.0
2	盛钟延	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心	17	221	9.0	14.0
3	娄丽芳	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心	4	46	3.0	4.0
4	肖丙刚	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心	3	36	3.0	3.0
5	姚奎鸿	浙江工程学院材料工程中心	2	24	1.0	2.0