磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响

• 作者: 余欧明 杭凌侠 王忠厚 王璘 赵保平
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 镀膜 沉积速率 工作气压
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 学位论文
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2662字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2004.01.002

摘要

沉积速率是磁控溅射镀膜技术中的一项重要指标,它由许多因素决定.为了定性地了解沉积速率与工作气压之间的关系,通过实验测定了不同工作气压下的沉积速率,发现存在一个最大值,并对应有一个最佳工作气压.运用气体放电理论对这一现象进行了分析.这个结论为提高薄膜制备效率指明了方向,并为进一步建立沉积速率与工作气压之间的数学模型打下了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杭凌侠		93	777	15.0	22.0
2	王忠厚	中国科学院西安光学精密机械研究所	32	519	13.0	22.0
3	王璘	中国科学院西安光学精密机械研究所	3	87	2.0	3.0
4	赵保平	中国科学院西安光学精密机械研究所	2	85	2.0	2.0