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摘要:
针对高分子光波导制造工艺中波导芯厚度的均匀性难以控制的实际困难,提出了采用抗波导芯厚度误差的宽带波导耦合器回路结构的解决方案,并给出了优化设计的理论和方法.在实测了含氟聚酰亚胺薄膜的色散特性的基础上,采用该方法做了中心波长为1 550nm、带宽为1 20nm的3dB含氟聚酰亚胺波导耦合器设计.该器件的三维BPM仿真运行结果表明,在上述带宽上,波导芯厚度变动在7-8 μm的范围内,器件的功率输出比保持了(50±0.9)%的良好特性.
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文献信息
篇名 消除波导厚度变动影响的高分子宽带耦合器设计
来源期刊 光通信技术 学科 工学
关键词 光波导 含氟聚酰亚胺光波导 抗工艺误差
年,卷(期) 2004,(5) 所属期刊栏目 光器件
研究方向 页码范围 58-60
页数 3页 分类号 TN929.11
字数 2725字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-5561.2004.05.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈抱雪 上海理工大学光电学院 94 435 11.0 16.0
2 袁一方 上海理工大学光电学院 80 554 14.0 20.0
3 赵德欣 7 31 3.0 5.0
4 贾洪波 上海理工大学光电学院 5 9 2.0 2.0
5 周建忠 上海理工大学光电学院 11 14 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
光波导
含氟聚酰亚胺光波导
抗工艺误差
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光通信技术
月刊
1002-5561
45-1160/TN
大16开
广西桂林市5号信箱
48-126
1977
chi
出版文献量(篇)
4439
总下载数(次)
8
总被引数(次)
17658
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