成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法

• 作者: 洪先龙 王旸 石蕊 蔡懿慈
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模 光刻 基于模型的光学邻近矫正
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 351-357
• 页数: 7页
• 分类号: TN47
• 字数: 5436字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.03.023

摘要

提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法,它是一种基于模型的光学邻近效应方法.该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点,适合于版图中关键图形的矫正.实验表明,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的矫正效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	洪先龙	清华大学计算机科学与技术系	114	410	9.0	11.0
2	蔡懿慈	清华大学计算机科学与技术系	68	273	8.0	11.0
3	王旸	清华大学计算机科学与技术系	4	17	2.0	4.0
4	石蕊	清华大学计算机科学与技术系	4	16	2.0	4.0