气相法二氧化硅应用机理及特性

• 作者: 方彬 李延国 王刚
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: 气相法二氧化硅 硅羟基 消光性 比表面积
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 50-52
• 页数: 3页
• 分类号: TQ127.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4990.2004.05.020

摘要

主要介绍了气相法二氧化硅在液态体系、干燥体系、固态体系中的作用机理;气相法二氧化硅在应用中的特殊性能;以及比表面积、pH、含水量、添加量、表面处理程度等气相法二氧化硅各项物理性能对应用性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王刚		21	79	5.0	8.0
2	李延国		5	37	3.0	5.0
3	方彬		3	26	1.0	3.0