电寻址空间光调制器制作灰度掩模技术的研究

• 作者: 吕海宝 朱小进 漆新民 谌廷政 高益庆
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 灰度掩模 空间光调制器 衍射效率 微光学元件
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 微细加工光学技术
• 页码范围: 46-49,64
• 页数: 5页
• 分类号: TN256
• 字数: 2987字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.07.014

摘要

介绍了制作微光学元件灰度掩模的两种方案,它们分别使用TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)和DMD(数字微镜器件)两种电寻址空间光调制器,采用并行直写和实时掩模技术,提高了灰度掩模制作的速度和灵活性.刷新率的变化和黑栅衍射效应将导致衍射效率下降,使得曝光深度误差增加.前者可延长曝光时间来消除,后者可通过高填充因子和放大滤波电路予以有效抑制.与LCD掩模相比,用DMD掩模制作的闪耀光栅的衍射效率提高了10%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高益庆	南昌航空工业学院测控系	47	396	10.0	18.0
2	吕海宝	国防科学技术大学机电工程研究所	10	124	5.0	10.0
3	漆新民	南昌航空工业学院测控系	19	122	6.0	11.0
4	朱小进	南昌航空工业学院测控系	4	29	3.0	4.0
5	谌廷政	国防科学技术大学机电工程研究所	5	30	3.0	5.0