透明陶瓷保护膜的研究

• 作者: 吕传花 董闯 陈宝清 黄龙
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 离子掺金镀 高能级磁控溅射离子镀 等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 55-57
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 1850字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2004.04.013

摘要

对黄铜基材装饰件表面先采用高能级磁控溅射离子镀(专利号:85102600.1)技术镀不锈钢代替电镀钯-镍合金,再采用等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀(专利号:ZL98236950.6)技术在不锈钢镀膜表面上镀制TiN/Au/透明陶瓷保护膜SiO2、TiO2.对其硬度、耐蚀性及耐磨性进行分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯	大连理工大学材料工程系	198	2023	23.0	34.0
2	陈宝清	大连理工大学材料工程系	10	26	3.0	4.0
3	吕传花	大连理工大学材料工程系	3	6	2.0	2.0
4	黄龙	大连理工大学材料工程系	2	3	1.0	1.0