多孔硅的微结构对其Raman谱的影响

• 作者: 丁训民 侯晓远 刘小兵 史向华 柳毅 柳玥 王行军
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 化学
• 关键词: 多孔硅 场发射扫描电镜 Raman谱 微结构
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 194-196
• 页数: 3页
• 分类号: O657.37
• 字数: 1985字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2004.03.009

摘要

用场发射扫描电子显微镜研究了用直流化学腐蚀和脉冲电化学腐蚀方法制备的多孔硅(PS)的微结构,观察并测试了孔洞的垂直度、深度以及洞宽(直径),对PS的纵向微结构进行了二次电子图像和背散电子图像的分析.使用高灵敏的共焦显微Raman系统研究了纵向的Raman谱,同时分析了微结构对纵向Raman效应的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史向华	长沙电力学院物理与信息工程系	25	84	5.0	8.0
2	侯晓远	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	14	86	4.0	9.0
3	刘小兵	长沙电力学院物理与信息工程系	28	102	5.0	8.0
4	丁训民	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	14	97	5.0	9.0
5	柳玥	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	3	16	1.0	3.0
6	柳毅	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	4	18	1.0	4.0
7	王行军	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	2	0	0.0	0.0