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激光化学气相沉积(LCVD)制取TiN薄膜
激光化学气相沉积(LCVD)制取TiN薄膜
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摘要：
研究了在W18Cr4V高速钢基体上,用CO2连续激光诱导化学气相沉积TiN薄膜的工艺方法.激光功能600W,在H2、N2、TiCl4反应系统中沉积出TiN薄膜,薄膜的颜色呈金黄色,显微硬度为2500HV.
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研究起点
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期刊影响力
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主办单位：
上海市机械制造工艺研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1008-1690
CN：
31-1768/TG
开本：
16开
出版地：
上海市中兴路960号
邮发代号：
创刊时间：
1979
语种：
chi
出版文献量（篇）
1946
总下载数（次）
4
总被引数（次）
7417
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